在(zai)之前(qian)的一篇(pian)文(wen)章中??，我們(men)討論了半導(dao)體(ti)制造(zao)工藝的測量解(jie)決方案。在(zai)此(ci)篇(pian)應(ying)用文(wen)章中，我們(men)將(jiang)介紹維(wei)薩拉濕度和壓力傳(chuan)感(gan)(gan)器系列，這些傳(chuan)感(gan)(gan)器可(ke)保障(zhang)半導(dao)體(ti)生(sheng)產機器制造(zao)商實現準確測量。

　　在半導體制(zhi)(zhi)造過程(cheng)中，溫度(du)、曝(pu)光(guang)時(shi)間(jian)、化學濃度(du)、材料質量或污染等條(tiao)件的細(xi)微變(bian)化，可能損毀整個(ge)硅(gui)片，甚至整個(ge)批次。因此，必須從源頭消滅這些變(bian)化，以確保工藝(yi)流程(cheng)穩(wen)定且易(yi)于(yu)復(fu)制(zhi)(zhi)，而用于(yu)調(diao)整多種工藝(yi)參數(shu)的測(ce)量結果(guo)是(shi)實現這一目標的關(guan)鍵。硅(gui)晶(jing)圓制(zhi)(zhi)造工藝(yi)中較(jiao)重(zhong)要的步驟包含化學清洗、光(guang)刻、晶(jing)圓涂膠顯影、擴晶(jing)和(he)(he)切割、晶(jing)圓偵測(ce)和(he)(he)測(ce)試(shi)，以及(ji)封裝和(he)(he)運輸到(dao)電子制(zhi)(zhi)造商。維薩拉可為(wei)半導體設(she)備供(gong)應商提供(gong)以下測(ce)量解(jie)決方案。

　　化學清洗：

　　晶圓清洗工藝的(de)目的(de)是(shi)在不改變或損壞晶圓表(biao)(biao)面或基板的(de)情況下去除化(hua)學(xue)和顆(ke)粒雜質。由于大多數清洗技(ji)術都(dou)使(shi)用化(hua)學(xue)品，因(yin)此(ci)測量傳(chuan)(chuan)感器(qi)必須具(ju)備耐(nai)受(shou)性。維薩拉(la)濕(shi)度傳(chuan)(chuan)感器(qi)具(ju)有(you)(you)化(hua)學(xue)物(wu)質清除功能(neng)，可通過定(ding)期加熱(re)傳(chuan)(chuan)感器(qi)元件(jian)來(lai)蒸(zheng)發溶(rong)劑(ji)蒸(zheng)汽(qi)等化(hua)學(xue)污染物(wu)，幫助傳(chuan)(chuan)感器(qi)在富含(han)化(hua)學(xue)物(wu)質的(de)環(huan)境(jing)中(zhong)免于受(shou)損。傳(chuan)(chuan)感器(qi)本身有(you)(you)機械(xie)保(bao)護(hu)，因(yin)此(ci)具(ju)備耐(nai)腐蝕特(te)性，部(bu)分儀(yi)表(biao)(biao)還配備加熱(re)元件(jian)，可以在提供實時露點計(ji)算(suan)的(de)同時保(bao)持探(tan)頭干燥。如果再安裝一個傳(chuan)(chuan)感器(qi)用于測量實際溫度，則可以根(gen)據露點和工藝溫度輕(qing)松、合理地(di)計(ji)算(suan)相(xiang)對(dui)濕(shi)度。而且，大多數維薩拉(la)儀(yi)表(biao)(biao)都(dou)能(neng)夠自動執(zhi)行此(ci)操作。

　　蝕刻：

　　完成(cheng)(cheng)化(hua)學清洗(xi)工藝之后，在晶圓表面蝕刻出微結構(gou)(gou)，并(bing)添加雜(za)質以形(xing)成(cheng)(cheng)半導(dao)體結構(gou)(gou)并(bing)氧化(hua)不同的(de)絕緣層。經(jing)過這(zhe)些步驟，晶圓上會出現幾個(ge)電子結構(gou)(gou)的(de)重疊(die)層，最終變成(cheng)(cheng)復雜(za)的(de)微處理器芯片等(deng)產品(pin)。

　　可穿戴(dai)設(she)備等現(xian)代產品越來越需要更(geng)小、更(geng)輕的(de)(de)(de)元件(jian)，因(yin)(yin)此在使用光(guang)學設(she)備的(de)(de)(de)蝕刻過(guo)程中(zhong)需要更(geng)精確的(de)(de)(de)控制。為(wei)了(le)生(sheng)產納米(mi)級(ji)結(jie)構(gou)，曝(pu)光(guang)必須準確，因(yin)(yin)為(wei)即使環(huan)境(jing)壓力、相對(dui)濕度和溫度有細微(wei)變化也會(hui)改變鏡(jing)頭(tou)的(de)(de)(de)光(guang)學行為(wei)。因(yin)(yin)此，必須根據這些測(ce)量(liang)結(jie)果實時(shi)調整鏡(jing)頭(tou)。以下參數(shu)對(dui)于(yu)提(ti)高光(guang)刻機在硅晶圓上打(da)印圖案的(de)(de)(de)質量(liang)至(zhi)關(guan)重要：濕度、溫度和環(huan)境(jing)壓力。同時(shi)，涂膠顯(xian)影機還(huan)需要測(ce)量(liang)設(she)備干燥過(guo)程中(zhong)的(de)(de)(de)水分。維薩拉Indigo520搭(da)配Indigo兼容智能探頭(tou)可用作單獨的(de)(de)(de)濕度儀表，Indigo520數(shu)據處(chu)理單元可連接多個(ge)探頭(tou)，還(huan)提(ti)供測(ce)量(liang)絕對(dui)壓力的(de)(de)(de)可選功能。

　　晶圓切割：

　　當半導體(ti)結構準(zhun)備(bei)好(hao)時(shi)，就應該將晶圓分(fen)割(ge)為單個芯片。有多種晶圓切割(ge)工藝技術，例如使用激光。該工藝的(de)(de)一個重要步驟是在晶圓加(jia)工膠帶或切割(ge)膠帶剝離時(shi)通過測量露(lu)點(dian)溫度來(lai)控制露(lu)水的(de)(de)形(xing)成(cheng)。半導體(ti)元件也會(hui)在不(bu)同的(de)(de)溫度條件下進(jin)行(xing)測試，確保(bao)它(ta)們符合(he)要求的(de)(de)產(chan)品規(gui)范，適用于(yu)不(bu)同級別的(de)(de)應用，包括(kuo)消(xiao)費(fei)、工業(ye)、汽車和(he)航空(kong)航天。

　　通常，測試會覆蓋(gai)從–40°C甚至更低溫(wen)度起始的整個溫(wen)度范圍。當測試完成且溫(wen)度再次升高時，晶(jing)圓上可(ke)能會出(chu)現冷凝，從而損壞敏感(gan)電路。

　　OEM集成：

　　維薩拉提供(gong)高效的解決方案，通(tong)過簡(jian)單的OEM集成(cheng)來(lai)監測機器(qi)(qi)內部的露點和霜點，確保(bao)這些機器(qi)(qi)可以用于測試通(tong)過切割從(cong)晶圓上分離出來(lai)的單個芯片。小(xiao)探頭可以集成(cheng)在(zai)試驗箱內，根據要求(qiu)提供(gong)實時(shi)數據。DMT143是(shi)一款(kuan)通(tong)用變送器(qi)(qi)，能夠覆蓋從(cong)–70°C到60°C的廣(guang)泛(fan)測量范(fan)圍(wei)；DMT152是(shi)一款(kuan)特殊變送器(qi)(qi)，針對溫度在(zai)–80°C和–20°C之間的超干燥條件進行了優化。

　　?探索模塊(kuai)化Indigo：

　　維薩拉(la)Indigo系(xi)列(lie)(lie)是(shi)一個可(ke)定制(zhi)的(de)儀表平臺，旨在(zai)實現工藝測量(liang)改進。模塊化(hua)是(shi)Indigo系(xi)列(lie)(lie)的(de)主要特點。該系(xi)列(lie)(lie)包含一系(xi)列(lie)(lie)數據(ju)處理(li)單(dan)元(yuan)、能(neng)夠測量(liang)各(ge)種參數的(de)可(ke)互換智能(neng)探(tan)頭(tou)(tou)，以及(ji)可(ke)實現輕松連接(jie)和數據(ju)監測的(de)軟(ruan)件。您可(ke)以選(xuan)擇任(ren)意探(tan)頭(tou)(tou)并(bing)將其(qi)與任(ren)意數據(ju)處理(li)單(dan)元(yuan)連接(jie)，或(huo)將探(tan)頭(tou)(tou)集成到其(qi)他系(xi)統中。Indigo平臺是(shi)在(zai)維薩拉(la)自主研發的(de)核心傳感(gan)器技術的(de)基礎上(shang)構(gou)建的(de)。

　　無論(lun)您(nin)(nin)要測量的(de)是(shi)濕(shi)度(du)、溫度(du)、露點、油中水(shui)分、二氧化(hua)碳、氣壓還是(shi)氣化(hua)過(guo)氧化(hua)氫，Indigo兼(jian)容探(tan)頭(tou)的(de)準確性和長期穩定(ding)性都能滿足您(nin)(nin)的(de)需求(qiu)。這些探(tan)頭(tou)可實現高分辨(bian)率的(de)可重復測量，為(wei)您(nin)(nin)提供值得信賴的(de)數(shu)據(ju)，從(cong)長遠來看，可以幫助(zhu)您(nin)(nin)做出更好(hao)的(de)決策。